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簡析PCB會出現(xiàn)開路的原因以及改善方法(二)

來源:織夢技術(shù)論壇 ?????作者:秩名 ?????發(fā)布日期:2019-06-28?????

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[導讀] 改善措施: 1、沉銅無孔化: a、整孔劑造成的無孔化:是因整孔劑的化學濃度不平衡或失效。整孔劑的作用是調(diào)整孔壁上絕緣基材的電性,以利于后續(xù)吸附鈀離子,確保化學銅覆蓋完全

改善措施:

  1、沉銅無孔化:

  a、整孔劑造成的無孔化:是因整孔劑的化學濃度不平衡或失效。整孔劑的作用是調(diào)整孔壁上絕緣基材的電性,以利于后續(xù)吸附鈀離子,確保化學銅覆蓋完全,如果整孔劑的化學濃度不平衡或失效,會導致無孔化。

  b、活化劑:其主要成份是pd、有機酸、亞錫離子及氯化物。孔壁要有金屬鈀均勻沉積上就必須要控制好各方面的參數(shù),使其符合要求,以我們現(xiàn)用的活化劑為例:

 ?、?、溫度控制在35~44℃,如果溫度低了造成鈀沉積上去的密度不夠,化學銅覆蓋不完全;溫度高了因反應過快,材料成本增加。

 ?、凇舛缺壬刂圃?0%~100%,如果濃度低了造成鈀沉積上去的密度不夠,化學銅覆蓋不完全;濃度高了因反應過快,材料成本增加。

 ?、?、在生產(chǎn)過程中要維護好活化劑的溶液,如果污染程度較嚴重,會造成孔壁沉積的鈀不致密,后續(xù)化學銅覆蓋不完全。

  c、加速劑:主要成份是有機酸,是用以去除孔壁吸附的亞錫和氯離子化合物,露出后續(xù)反應的催化金屬鈀。我們現(xiàn)在用的加速劑,化學濃度控制在0.35~0.50N,如果濃度高了把金屬鈀都去掉了,導致后續(xù)化學銅覆蓋不完全。如果濃度低了,去除孔壁吸附的亞錫和氯離子化合物效果不良,導致后續(xù)化學銅覆蓋不完全。

  d、化學銅參數(shù)的控制是關(guān)系到化學銅覆蓋好壞的關(guān)鍵,以我司目前所使用的藥水參數(shù)為例:

 ?、佟囟瓤刂圃?5~32℃,溫度低了藥液活性不好,造成無孔化;如果溫度超過38℃,因藥液反應快,銅離子釋出也快,容易造成板面銅粒而返工甚至報廢,這時沉銅藥液要立即進行過濾,否則藥液有可能造成報廢。

  ②、Cu2+控制在1.5~3.0g/L,Cu2+含量低了藥液活性不好,會造成孔化不良;如果濃度超過3.5g/L,因藥液反應快,銅離子釋出也快,造成板面銅粒而返工甚至報廢,這樣沉銅藥液要立即進行過濾,否則藥液有可能造成報廢。Cu2+控制主要通過添加沉銅A液進行控制。

 ?、邸aOH控制在10.5~13.0g/L為宜,NaOH含量低了藥液活性不好,會造成孔化不良。NaOH控制主要通過添加沉銅B液進行控制,B液內(nèi)含有藥液的穩(wěn)定劑,正常情況下A液和B液是1:1進行補充添加的。

 ?、堋CHO控制在4.0~8.0g/L,HCHO含量低了藥液活性不好,造成孔化不良,如果濃度超過8.0g/L時,因藥液反應快,銅離子釋出也快,造成板面銅粒而返工甚至報廢,這樣沉銅藥液要立即進行過濾,否則藥液有可能造成報廢。HCHO控制主要通過添加沉銅C液進行控制,A液內(nèi)也含有HCHO的藥液成分,所以添加HCHO時,先要計算好補充A液時的HCHO濃度升高量。
    ⑤、沉銅的負載量控制在0.15~0.25ft2/L,負載量低了藥液活性不好,造成孔化不良;如果負載量超過0.25ft2/L,因藥液反應快,銅離子釋出也快,造成板面銅粒而返工甚至報廢,這樣沉銅藥液要立即進行過濾,否則藥液有可能造成報廢。生產(chǎn)時第一缸板必須要用銅板進行拖缸,把沉銅藥液的活性激活起來,便于后續(xù)沉銅產(chǎn)品的反應,確??變?nèi)化學銅的致密度和提高覆蓋率。

  建議:為了達到以上各項參數(shù)的平衡和穩(wěn)定,沉銅缸添加A、B液,應配置一臺自動加料機,以更好地控制各項化學成份;同時溫度也采用自動控制裝置使沉銅線溶液的溫度處于受控狀態(tài)。

  2、孔內(nèi)殘留有濕膜油造成無孔化:

  a、絲印濕膜時印一塊板刮一次網(wǎng)底,確保網(wǎng)底沒有堆油現(xiàn)象存在,正常情況下不會有孔內(nèi)殘留濕膜油的現(xiàn)象;

  b、絲印濕膜時使用的是68~77T網(wǎng)版,如果用錯了網(wǎng)版,如≤51T時,孔內(nèi)有可能漏入濕膜油,顯影時孔內(nèi)的油有可能顯影不干凈,電鍍時就會因鍍不上金屬層而造成無孔化。如果網(wǎng)目高了,有可能因油墨厚度不夠,在電鍍時抗鍍膜被電流擊破,造成電路間出現(xiàn)很多金屬點甚至導致短路。

  3、粗化過度造成無孔化:

  a、線路前如果是采用化學粗化板面的話,對粗化溶液的溫度、濃度、粗化時間等參數(shù)要控制好,否則有可能因板鍍孔銅厚度薄,無法承受粗化液的溶銅力而造成無孔化。

  b、為了加強鍍層和基銅的結(jié)合力,電鍍前處理都要經(jīng)過化學粗化后再電鍍,所以對粗化溶液的溫度、濃度、粗化時間等參數(shù)要控制好,否則也有可能造成無孔化問題。

  4、電鍍無孔化:

  a、電鍍時厚徑比較大(≥5:1)時孔內(nèi)會有氣泡,這是因為振動力不足,無法使孔內(nèi)的空氣逸出,也就無法實現(xiàn)離子交換,從而使孔內(nèi)沒有鍍上銅/錫,蝕刻時把孔內(nèi)的銅蝕掉便造成了無孔化。

  b、厚徑比較大(≥5:1),電鍍前處理時由于孔內(nèi)有氧化現(xiàn)象沒有清除干凈,電鍍時會出現(xiàn)抗鍍現(xiàn)象,沒有鍍上銅/錫或鍍上去的銅/錫很薄,蝕刻時起不到抗蝕效果導致把孔內(nèi)的銅蝕掉而造成無孔化。

  5、鉆咀燒孔或粉塵堵孔無孔化:

  a、鉆孔時鉆咀使用壽命沒有設置好,或者使用的鉆咀磨損較嚴重,如缺口、不鋒利,鉆孔時因磨擦力太大而發(fā)熱,造成孔壁燒焦無法覆蓋化學銅而造成無孔化。

  b、吸塵機的吸力不夠大,或者工程優(yōu)化時沒有做好,鉆孔時孔內(nèi)有粉塵堵塞,在化學銅時沒有沉上銅而造成無孔化。

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