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高縱橫比多層板電鍍技術(shù)淺析(一)

來源:織夢技術(shù)論壇 ?????作者:秩名 ?????發(fā)布日期:2019-07-04?????

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[導(dǎo)讀] 高縱橫比通孔的電鍍,在多層板制造工藝中是個關(guān)鍵,由于板厚度與孔徑之比的數(shù)據(jù)高出5:1,要使鍍銅層能均勻的全部覆蓋在孔壁內(nèi)難度是很大的。由于孔徑小、高深度使通孔在整個

高縱橫比通孔的電鍍,在多層板制造工藝中是個關(guān)鍵,由于板厚度與孔徑之比的數(shù)據(jù)高出5:1,要使鍍銅層能均勻的全部覆蓋在孔壁內(nèi)難度是很大的。由于孔徑小、高深度使通孔在整個處理過程都很難達到工藝要求。最容易發(fā)生質(zhì)量問題的工步就是除環(huán)氧鉆污即凹蝕,使凹蝕的微蝕深度很難控制,因為孔徑小又深凹蝕液很難順利地通過整個孔內(nèi),有的首先接觸的環(huán)氧樹脂部分發(fā)生凹蝕,等到全部被凹蝕液浸到時,越先的部位凹蝕深度超標(biāo),露出玻璃纖維。形成空洞使后來的沉銅無法覆蓋全部,就會出現(xiàn)空洞現(xiàn)象。第二就是沉銅過程中,溶液的交換受阻,更換新鮮沉銅液就很困難,使沉銅的覆蓋率大降低。第三就是電鍍的分散能力達不到工藝要求,很容易使一部分的沉銅層被溶解掉,形成空洞或無鍍銅層等造成的。在這種情況下,如何利用現(xiàn)有工藝裝備達到提高鍍覆孔的可靠性和孔鍍層完整達標(biāo)是此文論述的重點。

 

  一.高縱橫比通孔電鍍?nèi)毕莓a(chǎn)生的原因分析

  為確保多層板的質(zhì)量的高可靠性和高穩(wěn)定性,就必須充分了解在多層板制造全過程中的關(guān)鍵即要害控制點。說的更明確些就是容易出現(xiàn)質(zhì)量問題的工序,不但要知道問題發(fā)生的部位,更必須知道的產(chǎn)生缺陷的根本原因和直簡接影響的因素。通過多年生產(chǎn)多層板的生產(chǎn)經(jīng)驗,經(jīng)常出現(xiàn)質(zhì)量問題的部位就是去環(huán)氧鉆污(即凹蝕)。為什么呢?因為該種類型的多層板板厚而孔徑小而深,凹蝕液很難順利地通過整個孔內(nèi),就像自來水管一樣,孔徑小很多水不能同時通過水管流動,于是產(chǎn)生水壓,才能使自來水順利通行。同樣由于孔溶 液的流動是靠自身的力量流入孔內(nèi),如沒有壓力就很全部流過孔壁部位,同時樹脂本身還有對水的排斥力,就更難通過孔的全部。有的首先接觸的環(huán)氧樹脂部分發(fā)生凹蝕,等到全部被凹蝕液浸到時,先進行的部位的凹蝕深度超標(biāo),露出玻璃纖維,形成空洞使后來的沉銅無法覆蓋全部,就會出現(xiàn)空洞現(xiàn)象。在沉銅的過程中,溶液在孔內(nèi)的流動性差,其主要原因是因為孔徑小、孔深靠孔的兩面進溶液阻力過大,使孔內(nèi)的已反應(yīng)的溶液無法及時更換新鮮沉銅液,缺少銅離子而已沉銅的部位也會受到溶液的浸蝕。再加上在其它處理溶液處理過的板經(jīng)清洗后,孔內(nèi)水份未排盡,再進行沉銅液時形成空氣泡,阻礙銅離子的還原此部位也就會缺少導(dǎo)電層。在電鍍時,由于光亮酸性鍍銅的分散能力有限,當(dāng)給沖擊電流時電流達到中心部位很難,往往也會由于銅的沉積不完全,而已沉銅的部位由于電流以引不到位,就無法獲取沉積層,因而被酸性溶液浸蝕而溶解,形成空洞。如果采取的沖擊電流過大,還會將已沉銅的部位,特別是孔口兩端被燒蝕。


       二.高縱橫比通孔電鍍的控制與對策

  根據(jù)上述所論述原因分析,對高縱橫比的多層板的沉銅和電鍍所存在的實際情況,必須采取相應(yīng)的工藝對策,針對最容易產(chǎn)生問題的部位加強重點控制。特別在進行除環(huán)氧鉆污時,一方面要選擇潤濕性能好的凹蝕溶液;另一方面采取水平振動的裝置,使凹蝕液能順利的通過整個孔,使處理后的所形成的氣泡趕走,將經(jīng)過溶脹而變的疏松的環(huán)氧樹脂從內(nèi)層銅環(huán)表面除去,呈現(xiàn)理想的金屬光澤,增加與沉銅層和電鍍層的結(jié)合力。因為多層板的內(nèi)層電路是靠孔完整的孔鍍層達到與外層或所需要的內(nèi)層進行可靠的電氣互邊,如孔鍍層與內(nèi)層電路斷開或連接有嚴(yán)重缺陷,就會經(jīng)裝配后徹底造成電路斷路。如內(nèi)層環(huán)氧名污不是牢固粘附在孔壁上,即是鍍上銅層其結(jié)合孔很差,在電裝時由于熱的沖擊時就會脫落或經(jīng)拉脫試驗時也會脫開。所以,改進凹蝕的工藝方法,增加凹蝕液在孔內(nèi)的流動,不斷地更換新鮮凹蝕液,確保內(nèi)層銅環(huán)的環(huán)氧鉆污除干凈是保證孔內(nèi)鍍層完整根本。

  第二方面要解決沉銅質(zhì)量問題,就要分析沉銅對小孔、孔深的關(guān)鍵點。重要的就是保證沉銅溶液在孔內(nèi)順利地流動,不斷地更換,使沉銅在孔壁表面形成致密的導(dǎo)電層。具體的做法,就是根據(jù)多層板板厚與孔徑比的特點,除了選擇活性比較高的沉銅系列的配方和工藝條件比較寬的外,主要就是為確保小孔溶液的流動性需增加相應(yīng)的輔助設(shè)備,在鍍覆孔的關(guān)鍵工序都應(yīng)增加振動裝置,目的就是要將多層板上所有的孔內(nèi)的氣泡逸出孔外,更重要的保證沉銅液在孔內(nèi)的自由流動,能充分的與孔壁接觸達到反應(yīng)完全,沉積層完整無缺陷。但是還要考慮如何與此裝置相匹配的裝掛方式也是極關(guān)重要的。如采用籃框裝掛沉銅析時,必將板傾斜一個角度,再加上擺動裝置,就可以提高孔內(nèi)沉銅液的流動性。

 

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